常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯)， 高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g线(436 nm)或i线(365 nm)。紫外光光源是一种能发射紫外线的装置，是观察样品荧光和磷光特征必需的工具，广泛应用于杀菌消毒的一种物理手段，典型运用如光刻机的曝光系统。
对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF准分子激光(248 nm)、ArF准分子激光(193 nm)和F2准分子激光(157m)等，可用于曝光系统。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。光刻机分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV）。按照发展轨迹，最早的光刻机光源即为汞灯产生的紫外光源（UV）。之后行业领域内采用准分子激光的深紫外光源（DUV），将波长进一步缩小到ArF的193 nm。
由于遇到了技术发展障碍，ArF加浸入技术成为主流。为了提供波长更短的光源，极紫外光源（EUV）为业界采用。目前现有产品投入一定的研发成本可以直接开发应用于大功率紫外光源的驱动系统，通过对产品的升级与调试，可以实现对深紫外光超大功率的光源驱动。
目前国内很多大功率紫外光光源驱动电源依靠进口，且成本高，适用性低，支持PWM调节输出的价格比较昂贵。国内生产的大功率紫外曝光灯稳定性不高，无法支持PWM输出调节。本产品是针对紫外光曝光大功率光源研发的驱动方案，可以应用于大型机械中的紫外杀菌以及紫外曝光工艺的机器，驱动电流恒定。